|
|
Дозированные гранулы
вакуумплавленной меди бКО.028.007 ТУ и алюминия ЕТО.021.051 ТУ.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
- Al - применяется для изготовления елементов микросхем (напр. обкладок пленочных конденсаторов) методом вакуумтермического напыления
- Cu - применяется для изготовления елементов пленочных микросхем (напр. токоведущих дорожек) методом вакуумтермического напыления
- Выпускаются в виде гранул (диаметр 2-3 мм, 1 - 4-5 мм), вес Cu - 0,3-0,6; Al - 0,2-0,5г
- Содержание кислорода не более 0,0015% по массе
- Параметры распыления - в инструкции по эксплуатации вакуумного оборудования, позволяющему распылять вакуумтермическим способом
|
|
